- Nazwa przedmiotu:
- Krystalizacja Powłok z Fazy gazowej
- Koordynator przedmiotu:
- prof. dr hab. inż. Andrzej Michalski
- Status przedmiotu:
- Obowiązkowy
- Poziom kształcenia:
- Studia I stopnia
- Program:
- Inżynieria Materiałowa
- Grupa przedmiotów:
- Kod przedmiotu:
- Semestr nominalny:
- 7 / rok ak. 2009/2010
- Liczba punktów ECTS:
- 1
- Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
- Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
- Język prowadzenia zajęć:
- polski
- Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
- Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
-
- Wykład15h
- Ćwiczenia0h
- Laboratorium0h
- Projekt0h
- Lekcje komputerowe0h
- Wymagania wstępne:
- Wykład Inżynieria Powierzchni
- Limit liczby studentów:
- Cel przedmiotu:
- Podstawowy wiedzy na temat zarodkowania i krystalizacji powłok z fazy gazowej pod obniżonym ciśnieniem oraz wpływu warunków krystalizacji na właściwości i mikrostrukturę powłok.
- Treści kształcenia:
- Podstawy kinetycznej teorii gazów, wytwarzanie próżni, teorie zarodkowania i wzrostu powłok.
- Metody oceny:
- do uzgodnienia na zajęciach
- Egzamin:
- Literatura:
- Andrzej J. Michalski „Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej” Oficyna Wyd. PW Warszawa 2000,
Józef Żmija „Podstawy teorii wzrostu monokryształów” PWN Warszawa 1987.
- Witryna www przedmiotu:
- Uwagi:
Efekty uczenia się