Nazwa przedmiotu:
Krystalizacja Powłok z Fazy gazowej
Koordynator przedmiotu:
prof. dr hab. inż. Andrzej Michalski
Status przedmiotu:
Obowiązkowy
Poziom kształcenia:
Studia I stopnia
Program:
Inżynieria Materiałowa
Grupa przedmiotów:
Kod przedmiotu:
Semestr nominalny:
7 / rok ak. 2011/2012
Liczba punktów ECTS:
1
Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
Język prowadzenia zajęć:
polski
Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
  • Wykład15h
  • Ćwiczenia0h
  • Laboratorium0h
  • Projekt0h
  • Lekcje komputerowe0h
Wymagania wstępne:
Wykład Inżynieria Powierzchni
Limit liczby studentów:
Cel przedmiotu:
Podstawowy wiedzy na temat zarodkowania i krystalizacji powłok z fazy gazowej pod obniżonym ciśnieniem oraz wpływu warunków krystalizacji na właściwości i mikrostrukturę powłok.
Treści kształcenia:
Podstawy kinetycznej teorii gazów, wytwarzanie próżni, teorie zarodkowania i wzrostu powłok.
Metody oceny:
do uzgodnienia na zajęciach
Egzamin:
Literatura:
Andrzej J. Michalski „Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej” Oficyna Wyd. PW Warszawa 2000, Józef Żmija „Podstawy teorii wzrostu monokryształów” PWN Warszawa 1987.
Witryna www przedmiotu:
Uwagi:

Efekty uczenia się