Politechnika
Warszawska

Katalog
ECTS

Nazwa przedmiotu:

Symulacja komputerowa procesów przemysłowych

Koordynator przedmiotu:

dr inż. Roman Krzywda

Status przedmiotu:

Obowiązkowy

Poziom kształcenia:

Studia II stopnia

Program:

Inzynieria Chemiczna i Procesowa

Grupa przedmiotów:

Obowiązkowe

Kod przedmiotu:

IC.MIP103

Semestr nominalny:

1 / rok ak. 2015/2016

Liczba punktów ECTS:

5

Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:

1. Godziny kontaktowe z nauczycielem akademickim wynikające z planu studiów 75 2. Godziny kontaktowe z nauczycielem akademickim w ramach konsultacji 6 3. Godziny kontaktowe z nauczycielem akademickim w ramach zaliczeń i egzaminów 6 4. Przygotowanie do zajęć (studiowanie literatury, odrabianie prac domowych itp.) 12 5. Zbieranie informacji, opracowanie wyników 16 6. Przygotowanie sprawozdania, prezentacji, raportu, dyskusji 15 7. Nauka samodzielna – przygotowanie do zaliczenia/kolokwium/egzaminu 10 Sumaryczne obciążenie studenta pracą 140 godz.

Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:

2,9 ECTS

Język prowadzenia zajęć:

polski

Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:

2,1 ECTS

Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:

• Wykład15h
• Ćwiczenia0h
• Laboratorium60h
• Projekt0h
• Lekcje komputerowe0h

Wymagania wstępne:

brak

Limit liczby studentów:

20

Cel przedmiotu:

1. Zdobycie umiejętności posługiwania się zaawansowanym narzędziem do komputerowego wspomagania projektowania instalacji w przemysłach chemicznym i pokrewnych. 2. Uzyskanie końcowego efektu pracy projektowej w postaci pełnego schematu technologicznego.

Treści kształcenia:

Wykład 1. Koncepcja i cel wykorzystania programu komputerowego Chemcad firmy Chemistation Inc. do wspomagania projektowania inżynierskiego. 2. Podstawowe tryby pracy programu i aparaty zawarte w bibliotece programu Chemcad. 3. Baza danych substancji chemicznych w programie Chemcad i metody wyznaczania współczynników równowagi oraz entalpii. 4. Definiowanie strumieni wlotowych i parametrów procesowych aparatów (tryb projektowania i wymiarowania programu Chemcad). 5. Sposób wykonywania symulacji pracy instalacji przemysłowej. 6. Tworzenie pełnego schematu technologicznego oraz raportu dotyczącego instalacji w programie Chemcad. 7. Zastosowanie typowych aparatów do projektowania instalacji przemysłu chemicznego: wieże destylacyjne ( o działaniu okresowym i ciągłym), separatory ciała stałego, wymienniki ciepła, reaktory itp. 8. Metody projektowania instalacji przemysłowych, symulowanie przebiegu procesów (łącznie z recyrkulacją), obliczanie wymiarów aparatów. 9. Podstawy analizy i metody obliczeń kosztów inwestycyjnych i produkcyjnych instalacji przemysłowych. Laboratorium 1. Samodzielne wykonanie kilkunastu projektów komputerowych, przeprowadzenie symulacji pracy prostych instalacji zawierających typowe aparaty dla przemysłu chemicznego oraz przygotowanie pełnego schematu technologicznego. 2. Wykonanie indywidualnego projektu złożonej instalacji przemysłowej.

Metody oceny:

Wykład: egzamin ustny Laboratorium: samodzielne ćwiczenia przy komputerze w sali ETO; w trakcie zajęć uczestnicy wykonują szereg mini projektów związanych z omawianymi zagadnieniami, które po wydrukowaniu muszą zostać zaakceptowane przez prowadzącego. Zajęcia kończą się samodzielnym wykonaniem złożonej pracy końcowej.

Egzamin:

tak

Literatura:

1. Strona internetowa producenta oprogramowania: http://www.chemstations.com/ 2. Strona internetowa dystrybutora oprogramowania na Europę: http://www.norpar.com/ 3. Podstawy obliczeń projektowych w technologii chemicznej, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2005 4. J. Ciborowski, Inżynieria chemiczna, Inżynieria procesowa, Wydawnictwo Naukowo Techniczne, Warszawa, 1973. 5. Z. Ziółkowski, Destylacja i rektyfikacja w przemyśle chemicznym, Wydawnictwo Naukowo Techniczne, Warszawa, 1978. 6. J.R. Couper, W.R. Penney, J.R. Fair, S.M. Walas, Chemical Process Equipment, Elsevier, 2012.

Witryna www przedmiotu:

brak

Uwagi:

Efekty uczenia się

Profil ogólnoakademicki - wiedza

Efekt W1

Ma wiedzę przydatną do zrozumienia podstaw fizycznych i chemicznych podstawowych operacji i procesów inżynierii chemicznej i procesowej, do sporządzania bilansów termodynamicznych i do obliczeń równowag fazowych i chemicznych. Ma wiedzę niezbędną do projektowania i analizy pracy instalacji typowej dla przemysłu chemicznego
Weryfikacja: egzamin ustny, zaliczenie
Powiązane efekty kierunkowe: K_W04, K_W05, K_W06
Powiązane efekty obszarowe: T2A_W02, T2A_W03, T2A_W03, T2A_W04, T2A_W03, T2A_W04

Profil ogólnoakademicki - umiejętności

Efekt U1

Potrafi posługiwać się zaawansowanym narzędziem do komputerowego wspomagania projektowania instalacji w przemyśle chemicznym i pokrewnych (potrafi dobrać aparaty do realizacji założonego procesu, stworzyć schemat technologiczny instalacji i dobrać prawidłowe parametry pracy poszczególnych aparatów oraz przeprowadzić analizę ich wpływu na pracę instalacji).
Weryfikacja: zaliczanie kolejnych projektów na ćwiczeniach
Powiązane efekty kierunkowe: K_U11
Powiązane efekty obszarowe: T2A_U09

Efekt U2

Potrafi przeprowadzić analizę ekonomiczną projektowanej instalacji.
Weryfikacja: zaliczanie kolejnych projektów na ćwiczeniach
Powiązane efekty kierunkowe: K_U13
Powiązane efekty obszarowe: T2A_U14

Profil ogólnoakademicki - kompetencje społeczne

Efekt KS1

Potrafi myśleć analitycznie i działać samodzielnie
Weryfikacja: zaliczanie kolejnych projektów na ćwiczeniach
Powiązane efekty kierunkowe: K_K03, K_K04
Powiązane efekty obszarowe: T2A_K05, T2A_K06