Nazwa przedmiotu:
Materiały cienkowarstwowe - właściwości i wytwarzanie
Koordynator przedmiotu:
prof. dr hab. inż. Janusz Płocharski
Status przedmiotu:
Fakultatywny ograniczonego wyboru
Poziom kształcenia:
Studia II stopnia
Program:
Technologia Chemiczna
Grupa przedmiotów:
Obowiązkowe
Kod przedmiotu:
-
Semestr nominalny:
2 / rok ak. 2015/2016
Liczba punktów ECTS:
2
Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
1. godziny kontaktowe 30 h, w tym: a) obecność na wykładach – 20 h b) obecność na seminarium – 10 h 2. zapoznanie się ze wskazaną literaturą – 10 h 3. przygotowanie do wygłoszenia seminarium – 15 h 4. przygotowanie do egzaminu i obecność na kolokwium –20 h Razem nakład pracy studenta: 20h+10h+10h+15h+20h = 75h, co odpowiada 3 punktom ECTS.
Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
1. obecność na wykładach – 30h , Razem: 30h, co odpowiada 2 punktom ECTS.
Język prowadzenia zajęć:
polski
Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
Planowane zajęcia nie mają charakteru praktycznego (0 punktów ECTS).
Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
  • Wykład15h
  • Ćwiczenia0h
  • Laboratorium0h
  • Projekt15h
  • Lekcje komputerowe0h
Wymagania wstępne:
brak
Limit liczby studentów:
brak
Cel przedmiotu:
Celem przedmiotu jest omówienie wybranych właściwości materiałów w postaci cienkich warstw jak również metod ich wytwarzania. Po ukończeniu kursu student powinien: znać i rozumieć specyficzne właściwości materiałów cienkowarstwowych • wykazać się znajomością właściwości gazów pod obniżonym ciśnieniem • wykazać się znajomością podstaw technologii wysokiej próżni • wykazać się znajomością podstawowych fizycznych i chemicznych technologii wytwarzania cienkich warstw oraz metod ich charakteryzacji.
Treści kształcenia:
Wprowadzenie i cel zajęć • Specyficzne właściwości materiałów cienkowarstwowych • Przegląd metod osadzania cienkich warstw • Właściwości gazów pod niskim ciśnieniem • Technologia wysokiej próżni – przegląd metod wytwarzania i pomiaru • Przygotowanie podłoży dla cienkich warstw • Metody PVD – naparowanie próżniowe i MBE • Metody PVD – rozpylanie jonowe • Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) • Metody charakteryzacji cienkich warstw • Przykłady wybranych procesów technologicznych (referaty studenckie na seminarium).
Metody oceny:
kolokwium z części wykładowej (70%) oraz ocena z seminarium (30%)
Egzamin:
nie
Literatura:
Literatura podstawowa: 1. Mattox, D.M., „Foundations of Vacuum Coating Technology”, William Andrew Publishing/Noyes (2003); 2. „Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings - Science, Technology and Applications (2nd Edition)”, Bunshah, R.F. (ed.), William Andrew Publishing/Noyes (2010); Literatura uzupełniająca: 1. Mattox, D.M., „Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing” William Andrew Publishing/Noyes (1998); 2. „Handbook of Thin-Film Deposition Processes and Techniques - Principles, Methods, Equipment and Applications (2nd Edition)” Seshan, K. (ed.), William Andrew Publishing/Noyes (2002); 3. Wasa, Kiyotaka; Kitabatake, Makoto; Adachi, Hideaki, „Thin Film Materials Technology - Sputtering of Compound Materials”, William Andrew Publishing/Noyes (2004); 4. Elshabini Aicha, A. R., and Barlow, F. D, „Thin Film Technology Handbook”, McGraw-Hill, New York (1998)
Witryna www przedmiotu:
ch.pw.edu.pl
Uwagi:
-

Efekty uczenia się