Nazwa przedmiotu:
Aparatura chemiczna i maszynoznawstwo
Koordynator przedmiotu:
dr inż. Jakub Gac
Status przedmiotu:
Obowiązkowy
Poziom kształcenia:
Studia I stopnia
Program:
Technologia Chemiczna
Grupa przedmiotów:
Obowiązkowe
Kod przedmiotu:
brak
Semestr nominalny:
4 / rok ak. 2018/2019
Liczba punktów ECTS:
2
Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
Język prowadzenia zajęć:
polski
Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
  • Wykład30h
  • Ćwiczenia0h
  • Laboratorium0h
  • Projekt0h
  • Lekcje komputerowe0h
Wymagania wstępne:
matematyka, fizyka
Limit liczby studentów:
Cel przedmiotu:
Celem zajęć jest zapoznanie studentów z konstrukcją aparatury chemicznej, urządzeniami do prowadzenia procesów jednostkowych i złożonych, doborem i projektowaniem aparatury oraz instalacji technologicznych.
Treści kształcenia:
Celem zajęć jest zapoznanie studentów z konstrukcją aparatury chemicznej, urządzeniami do prowadzenia procesów jednostkowych i złożonych, doborem i projektowaniem aparatury oraz instalacji technologicznych. Program kursu obejmuje: podstawy rozwoju projektowania aparatury procesowej, stosowane materiały konstrukcyjne, zbiorniki do magazynowania ciał stałych, cieczy i gazów, urządzenia do transportu i procesów przetwarzania ciał stałych, pompy i sprężarki, mieszalniki i separatory układów niejednorodnych, wymienniki ciepła, wyparki i krystalizatory, aparaturę do prowadzenia procesów destylacji, absorpcji, adsorpcji, ekstrakcji, suszenia i granulacji oraz reakcji chemicznych. Celem wykładu jest również przedstawienie zagadnień dotyczących normalizacji aparatury i możliwości doboru aparatury do różnych zastosowań technologicznych. Poza bezpośrednimi zastosowaniami aparatury w przemyśle chemicznym omawiana jest możliwość jej zastosowania w innych przemysłach i ochronie środowiska. Przedstawiane są powiązania między zasadami projektowania aparatów a podstawowymi prawami inżynierii procesowej w zakre-sie przenoszenia masy, ciepła i pędu.
Metody oceny:
egzamin pisemny i ustny
Egzamin:
Literatura:
1. J. Warych, Aparatura chemiczna i procesowa, Oficyna Wydawnicza PW, Warszawa, 1998. 2. R. Koch, A. Noworyta, Procesy mechaniczne w inżynierii chemicznej, WNT, Warszawa, 1995.
Witryna www przedmiotu:
Uwagi:

Efekty uczenia się

Profil ogólnoakademicki - wiedza

Charakterystyka W01
Zna najważniejsze typy aparatów stosowanych w przemyśle chemicznym oraz zasady ich eksploatacji
Weryfikacja: zaliczenie
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_W11, K_W10
Powiązane charakterystyki obszarowe:
Charakterystyka W02
Posiada podstawową wiedzę z wybranych dyscyplin inżynierskich (obliczenia inżynierskie, techniki analityczne i pomiarowe, automatyka) przydatną do projektowania i doboru aparatury
Weryfikacja: zaliczenie
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_W01, K_W02
Powiązane charakterystyki obszarowe:

Profil ogólnoakademicki - umiejętności

Charakterystyka U01
Potrafi zaprojektować i dobrać proste aparaty procesowe
Weryfikacja: zaliczenie
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_U22, K_U23
Powiązane charakterystyki obszarowe:
Charakterystyka U02
Potrafi zaprojektować sposób współpracy aparatów tak, aby realizowały określony proces
Weryfikacja: zaliczenie
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_U21, K_U23, K_U26
Powiązane charakterystyki obszarowe:
Charakterystyka U03
Potrafi przewidzieć trudności eksploatacyjne maszyn i urządzeń stosowanych w przemyśle chemicznym
Weryfikacja: zaliczenie
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_U01, K_U20
Powiązane charakterystyki obszarowe:

Profil ogólnoakademicki - kompetencje społeczne

Charakterystyka K01
Potrafi współpracować ze specjalistami z innych dziedzin (mechanikami, energetykami, biotechnologami) w celu optymalnego doboru i eksploatacji maszyn i urządzeń przemysłu chemicznego
Weryfikacja: zaliczenie
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_K02, K_K05, K_K07
Powiązane charakterystyki obszarowe: