- Nazwa przedmiotu:
- Materiały cienkowarstwowe - właściwości i wytwarzanie
- Koordynator przedmiotu:
- prof. dr hab. inż. Janusz Płocharski
- Status przedmiotu:
- Fakultatywny ograniczonego wyboru
- Poziom kształcenia:
- Studia II stopnia
- Program:
- Technologia Chemiczna
- Grupa przedmiotów:
- Obowiązkowe
- Kod przedmiotu:
- -
- Semestr nominalny:
- 2 / rok ak. 2020/2021
- Liczba punktów ECTS:
- 2
- Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
- 1. godziny kontaktowe 30 h, w tym: a) obecność na wykładach – 20 h b) obecność na seminarium – 10 h 2. zapoznanie się ze wskazaną literaturą – 10 h 3. przygotowanie do wygłoszenia seminarium – 15 h 4. przygotowanie do egzaminu i obecność na kolokwium –20 h Razem nakład pracy studenta: 20h+10h+10h+15h+20h = 75h, co odpowiada 3 punktom ECTS.
- Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
- 1. obecność na wykładach – 30h , Razem: 30h, co odpowiada 2 punktom ECTS.
- Język prowadzenia zajęć:
- polski
- Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
- Planowane zajęcia nie mają charakteru praktycznego (0 punktów ECTS).
- Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
-
- Wykład15h
- Ćwiczenia0h
- Laboratorium0h
- Projekt15h
- Lekcje komputerowe0h
- Wymagania wstępne:
- brak
- Limit liczby studentów:
- brak
- Cel przedmiotu:
- Celem przedmiotu jest omówienie wybranych właściwości materiałów w postaci cienkich warstw jak również metod ich wytwarzania. Po ukończeniu kursu student powinien: znać i rozumieć specyficzne właściwości materiałów cienkowarstwowych • wykazać się znajomością właściwości gazów pod obniżonym ciśnieniem • wykazać się znajomością podstaw technologii wysokiej próżni • wykazać się znajomością podstawowych fizycznych i chemicznych technologii wytwarzania cienkich warstw oraz metod ich charakteryzacji.
- Treści kształcenia:
- Wprowadzenie i cel zajęć • Specyficzne właściwości materiałów cienkowarstwowych • Przegląd metod osadzania cienkich warstw • Właściwości gazów pod niskim ciśnieniem • Technologia wysokiej próżni – przegląd metod wytwarzania i pomiaru • Przygotowanie podłoży dla cienkich warstw • Metody PVD – naparowanie próżniowe i MBE • Metody PVD – rozpylanie jonowe • Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) • Metody charakteryzacji cienkich warstw • Przykłady wybranych procesów technologicznych (referaty studenckie na seminarium).
- Metody oceny:
- kolokwium z części wykładowej (70%) oraz ocena z seminarium (30%)
- Egzamin:
- nie
- Literatura:
- Literatura podstawowa:
1. Mattox, D.M., „Foundations of Vacuum Coating Technology”, William Andrew Publishing/Noyes (2003);
2. „Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings - Science, Technology and Applications (2nd Edition)”, Bunshah, R.F. (ed.), William Andrew Publishing/Noyes (2010);
Literatura uzupełniająca:
1. Mattox, D.M., „Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing” William Andrew Publishing/Noyes (1998);
2. „Handbook of Thin-Film Deposition Processes and Techniques - Principles, Methods, Equipment and Applications (2nd Edition)” Seshan, K. (ed.), William Andrew Publishing/Noyes (2002);
3. Wasa, Kiyotaka; Kitabatake, Makoto; Adachi, Hideaki, „Thin Film Materials Technology - Sputtering of Compound Materials”, William Andrew Publishing/Noyes (2004);
4. Elshabini Aicha, A. R., and Barlow, F. D, „Thin Film Technology Handbook”, McGraw-Hill, New York (1998)
- Witryna www przedmiotu:
- ch.pw.edu.pl
- Uwagi:
- -
Efekty uczenia się