- Nazwa przedmiotu:
- Mikrosystemy optyczne
- Koordynator przedmiotu:
- prof. dr hab. Małgorzata Kujawińska, dr inż. Michał Józwik, dr inż. Tomasz Kozacki
- Status przedmiotu:
- Obowiązkowy
- Poziom kształcenia:
- Studia II stopnia
- Program:
- Mechatronika
- Grupa przedmiotów:
- Obowiązkowe
- Kod przedmiotu:
- brak
- Semestr nominalny:
- 2 / rok ak. 2015/2016
- Liczba punktów ECTS:
- 5
- Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
- 1) Liczba godzin bezpośrednich 66, w tym:
a) wykłady - 30
b) laboratoria - 15
c) projekty- 15
d) dwa kolokwia - 2
e) konsultacje - 4
2) Praca własna studenta 65, w tym:
przygotowanie do laboratoriów - 15
przygotowanie sprawozdań - 15
przygotowanie i weryfikacjaprojektów - 20
raporty z projektów- 15
suma: 131 godz. (5 ECTS)
- Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
- 1) Liczba godzin bezpośrednich 66, w tym:
a) wykłady - 30
b) laboratoria - 15
c) projekty- 15
d) dwa kolokwia - 2
e) konsultacje - 4
suma 66 (2,5 ECTS)
- Język prowadzenia zajęć:
- polski
- Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
- O charakterze praktycznym:
a) laboratoria - 15
b) projekty- 15
c) konsultacje - 4
przygotowanie do laboratoriów - 15
przygotowanie sprawozdań - 15
przygotowanie i weryfikacjaprojektów - 20
raporty z projektów- 15
suma 99 godz. (4 ECTS)
- Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
-
- Wykład450h
- Ćwiczenia0h
- Laboratorium225h
- Projekt225h
- Lekcje komputerowe0h
- Wymagania wstępne:
- Optomechatronika, Podstawy fotoniki, Technika laserowa lub przedmioty o podobnym zakresie programowym
- Limit liczby studentów:
- 12
- Cel przedmiotu:
- Treści kształcenia:
- Wykład:
Wprowadzenie: podstawowe definicje i systematyka mikrosystemów i nanosystemów, komercjalizacja, perspektywy rozwoju i zastosowań mikro i nanosystemów.
Technologie podłożowe i powierzchniowe: przegląd technologii wytwarzania mikrosystemów, elementów optyki refrakcyjnej i dyfrakcyjnej, optyki planarnej i zintegrowanych struktur fotonicznych.
Mikrotechnologie 3D: mikrostereolitografia, obróbka wiązką lasera i jonów. LIGA, technika wytłaczania na gorąco i wtrysku. Przykłady zastosowań.
Elementy refrakcyjne i dyfrakcyjne: specyfika elementów mikrooptycznych. Mikrooczewka i macierze mikrosoczewek. Projektowanie elementów DOE. Porównanie mikrooptyki refrakcyjnej i dyfrakcyjnej.
Kryształy fotoniczne:podstawy teoretyczne. Kryształy fotoniczne 1D. Teoria Bloch. Pasmo zabronione. Optyka fourierowska struktur okresowych. Kryształy fotoniczne 2D. Efekty nieliniowe. Zastosowania.
Elementy światłowodowe i falowodowe: zasady projektowania światłowodów i falowodów dla celów telekomunikacyjnych i czujnikowych: elementy jednodomowe, wielodomowe i fotoniczne.
Aktuatory MEMS, zwierciadła i ich pozycjonowanie: aktuatory mikromechaniczne; metody aktuacji, proste konstrukcje mikrosiłowników, silniki rotacyjne, liniowe, przekładnie i łożyska, tarcie. Mechanizmy wielopalczaste, układy rezonansowe, przełączniki RF, mikroinstrumenty mechaniczne proste i złożone. Współpraca aktuatorów z mikrozwierciadłami.
Techniki łączenia: integracja podzespołów mikromechanicznych z układami optycznymi i elektronicznymi. Metody łączenia optyki światłowodowej i falowodowej. Techniki klejenia, bondingu i mikropołączeń elektrycznych.
Pomiary i badania mikrosystemów: przegląd technik pomiarowych i aparatury. Metody stykowe i optyczne. Badania niezawodnościowe. Przykładowe zastosowania.
Nanosystemy: nanostruktury przestrzenne, studnie kwantowe, kropki kwantowe, kryształy fotoniczne, nanoemitery ostrzowe, emitery polowe z nanorurkami węglowymi. Nowe materiały: „smart-materials”.
Pomiary i badania nanosystemów: badania własności fizycznych nanocząstek i nanostruktur. Przegląd technik pomiarowych i aparatury.
Poznanie najważniejszych urządzeń MEMS/MOEMS, ich architektur, technologii ich wytwarzania i zastosowań. Umiejętność doboru parametrów urządzeń, ich kalibracji i zestawiania systemów fotonicznych. Znajomość specyficznych problemów teoretycznych propagacji i projektowania mikrostruktur optycznych.
Laboratorium:
Zajęcia wstępne wraz z wykładem wprowadzającym
Projektowanie siatek dyfrakcyjnych z użyciem metod: FMM i TEA. Analiza dokładności metod.
Projektowanie oraz realizacja i badanie właściwości hologramów syntetycznych i elementów ogniskujących
Badania mikrosoczewek z wykorzystaniem metod interferometrycznych.
Badanie kształtu i przemieszczeń pozapłaszczyznowych urządzenia MOEMS z wykorzystaniem interferometru Twymana-Greena
Prezentacja linii technologicznej mikrosystemów – wycieczka do Instytutu Technologii Elektronowej
Projektowanie:
Projekt elementu MOEMS: Zadanie w postaci samodzielnego przygotowania konstrukcji mikrooptomechanicznej, propozycji przebiegu procesu technologicznego wytwarzania oraz jego analiza z wykorzystaniem metody MES.
- Metody oceny:
- Wykład: Zaliczenie na podstawie wyników 2 kolokwiów
Laboratorium : Zaliczenie na podstawie zdobytych punktów (ocen) za przygotowanie teoretyczne, wykonanie ćwiczeń i przedstawione sprawozdania.
Projektowanie: Zaliczenie na podstawie oceny wykonania projektu
- Egzamin:
- nie
- Literatura:
- R. Jóźwicki, Podstawy inżynierii fotonicznej, Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, Warszawa 2006
M.C. Gupta, Handbook of Photonics, CRC Press, New York 1997
B.A.E. Saleh, M.C. Teich, Fundamentals of Photonics, J. Wiley & Sons, Inc. New York 1991
S. Sinzinger, J. Jahns: Microoptics, Wiley-VCH, Berlin 1999
Z. Fortuna, B. Macukow, J. Wąsowski, Metody numeryczne, WNT, Warszawa, 2005
World of Microsystems: materiały z płyty multimedialnej ISBN 2-88238-004-6, 2004
R. Beck, Technologia krzemowa, WN PWN, Warszawa 1991
J. Dziuban, Technologia i zastosowanie mikromechanicznych struktur krzemowych i krzemowo-szklanych w technice mikrosystemów, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2002
- Witryna www przedmiotu:
- vvvvv
- Uwagi:
- vvvvvv
Efekty uczenia się
Profil ogólnoakademicki - wiedza
- Efekt MSO_W01
- Zna podstawowe techniki wytwarzania, zasady projektowania i aplikacje mikrosystemów optycznych
Weryfikacja: 2 kolokwia
Powiązane efekty kierunkowe:
K_W02, K_W03, K_W08, K_W14
Powiązane efekty obszarowe:
T2A_W01, T2A_W03, T2A_W06, T2A_W03, T2A_W04, T2A_W05
Profil ogólnoakademicki - umiejętności
- Efekt MSO_U01
- Potrafi zaprojektować podstawowe procesy technologiczne oraz metodyke badań wybranych elementów i urzadzeń mikrooptyki
Weryfikacja: Zaliczenie ćwiczeń w laboratorium i projektu
Powiązane efekty kierunkowe:
K_U01, K_U11, K_U13, K_U14, K_U15, K_U16
Powiązane efekty obszarowe:
T2A_U01, T2A_U07, T2A_U12, T2A_U17, T2A_U18, T2A_U18, T2A_U17, T2A_U19, T2A_U17, T2A_U19
Profil ogólnoakademicki - kompetencje społeczne
- Efekt MSO_K01
- Potrafi pracować w zespole i kierować jego praca
Weryfikacja: Realizacja kompleksowego cwiczenia laboratoryjnego i projektu
Powiązane efekty kierunkowe:
K_K01, K_K04
Powiązane efekty obszarowe:
T2A_K01, T2A_K03, T2A_K04, T2A_K05