Drukuj Eksport do pliku (MS Word)
Nazwa przedmiotu:
Systemy mikrooptoelektromechaniczne
Koordynator przedmiotu:
dr inż. Grzegorz Wróblewski
Status przedmiotu:
Obowiązkowy
Poziom kształcenia:
Studia I stopnia
Program:
Mechatronika
Grupa przedmiotów:
Obowiązkowe
Kod przedmiotu:
1140-MTMIN-IPS-7002
Semestr nominalny:
7 / rok ak. 2020/2021
Liczba punktów ECTS:
4
Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
1) Liczba godzin bezpośrednich –47 godz.  wykład – 15 godz.  ćwiczenia projektowe i laboratoryjnej – 30 godz.  konsultacje – 2 godz. 2) Praca własna studenta: 55 godz.  Studia literaturowe, przygotowanie się do egzaminu – 15 godz.  Przygotowanie się do ćwiczeń projektowych i laboratoryjnych – 20 godz.  Opracowanie sprawozdań z wykonanych ćwiczeń – 20 godz. Razem – 102 godz – 4 punkty ECTS
Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
2 punkty ECTS - Liczba godzin bezpośrednich –47 godz.  wykład – 15 godz.  ćwiczenia projektowe i laboratoryjnej – 30 godz.  konsultacje – 2 godz.
Język prowadzenia zajęć:
polski
Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
3 punkty ECTS- 70 godz, w tym:  ćwiczenia projektowe i laboratoryjnej – 30 godz.  przygotowanie się do ćwiczeń projektowych i laboratoryjnej– 20 godz.  opracowanie sprawozdań z wykonanych ćwiczeń – 20 godz.
Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
  • Wykład15h
  • Ćwiczenia0h
  • Laboratorium15h
  • Projekt15h
  • Lekcje komputerowe0h
Wymagania wstępne:
Znajomość materiałoznawstwa, grafiki inżynierskiej, technologii układów elektronicznych,
Limit liczby studentów:
Cel przedmiotu:
Poznanie procesów technologicznych mikro- i nanoukładów optoelektronicznych i elektromechanicznych. Rozwiązania konstrukcyjne, umiejętność projektowania, podstawowe parametry pracy i zastosowanie systemów MOEMS.
Treści kształcenia:
W. : Obszary zastosowań systemów MOEMS. Typowe procesy technologiczne półprzewodnikowych elementów optoelektronicznych: fotolitografia, DWL, NIL, LIFT, LIGA. Mikrokonstrukcje i mikronapędy. Czujniki ciśnienia, położenia, przyspieszenia. Układy mikroprzepływowe i filtracyjne „lab-on-chip”. Wyświetlacze i mikrozwierciadła LCD, OLED, LEEC, TFEL, FED, DMD. Ogniwa fotowoltaiczne, detektory optyczne. Drukowane struktury mikrolelektromechaniczne i optyczne. Warunki eksploatacji. L. : Wytwarzanie mikrobelek i membran. Wytwarzanie mikrozwierciadeł, mikrosilników, mikroprzekładni. Badanie układów mikroprzepływowych. P. : Opracowanie projektu i parametrów pracy układu mikroelektromechanicznego. Dobór rozwiązań komercyjnych. Dokumentacja procesu montażu obwodu elektronicznego z systemem MOEMS.
Metody oceny:
Egzamin, Zaliczenie ćwiczeń projektowych na podstawie raportów i prezentacji.
Egzamin:
tak
Literatura:
1. Praca zbiorowa: Procesy technologiczne w elektronice półprzewodnikowej, WNT, Warszawa 1987 2. A. Szwedowski: Materiałoznawstwo optyczne i optoelektroniczne, WNT, Warszawa 1996 3. A. Szwedowski, A. Wojtaszewski: Technologia elementów optycznych. Pomiary optyczne, Oficyna Wydawnicza P.W., 1994 4. A. Szwedowski, A. Wojtaszewski: Laboratorium technologii elementów optycznych, Oficyna Wydawnicza P.W., Warszawa 1994 5. L. A. Dobrzański : Materiały inżynierskie i projektowanie materiałowe. Podstawy nauki o materiałach i metaloznawstwo, WNT, 2003 6. M. E. Motamedi: MOEMS micro-opto-electro-mechanical systems. Vol. 126. SPIE Press, 2005. 7. J. A. Dobrowolski: Mikroelektro-mechaniczne systemy mikrofalowe. Elektronika: konstrukcje, technologie, zastosowania, 41(4), 3-10, (2000).
Witryna www przedmiotu:
Uwagi:

Efekty uczenia się

Profil ogólnoakademicki - wiedza

Charakterystyka MOEMS_W01
Posiada znajomość procesów wytwórczych i obróbczych materiałów optycznych i konstrukcyjnych. Posiada wiedzę w zakresie podstawowych procesów stosowanych w wytwarzaniu systemów optoelektronicznych i mikroelektromechanicznych. Posiada znajomość procesów wytwarzania światłowodów i ich zastosowania w systemach MOEMS.
Weryfikacja: Egzamin
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_W16, K_W17, K_W18, K_W02, K_W06, K_W12
Powiązane charakterystyki obszarowe: I.P6S_WG.o, P6U_W, III.P6S_WG

Profil ogólnoakademicki - umiejętności

Charakterystyka MOEMS_U01
Zna technologię materiałów optycznych i półprzewodnikowych. Potrafi zaprojektować proces technologiczny elementu optoelektronicznego i mikromechanicznego a także światłowodu oraz dobrać parametry technologiczne poszczególnych operacji procesu, dobrać materiały lub półfabrykaty niezbędne do jego realizacji.
Weryfikacja: Egzamin i zaliczenie ćwiczeń laboratoryjnych i projektowych
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_U01, K_U02, K_U03, K_U05, K_U12, K_U20
Powiązane charakterystyki obszarowe: P6U_U, I.P6S_UW.o, I.P6S_UK, I.P7S_UW.o, I.P6S_UO, I.P6S_UU, III.P6S_UW.o

Profil ogólnoakademicki - kompetencje społeczne

Charakterystyka MOEMS_K01
Potrafi pracować w zespole przy planowaniu i realizacji zadań inżynierskich.
Weryfikacja: Zaliczenie laboratorium i ćwiczeń projektowych na podstawie sprawozdań.
Powiązane charakterystyki kierunkowe: K_K04, K_K05, K_K01, K_K03
Powiązane charakterystyki obszarowe: I.P6S_KO, I.P6S_KR, P6U_K, I.P6S_KK