| Program | Wydział | Rok akademicki | Stopień |
|---|---|---|---|
| Mechatronika | Wydział Mechatroniki | 2017/2018 | mgr |
| Rodzaj | Kierunek | Koordynator ECTS | |
| Stacjonarne | Mechatronika | brak |
Semestr 1: | ||||||||||
| Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Specjalność: Elektroniczne systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Elektroniczne systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Numeryczna mechanika płynów w metrologii przepływów | 3 | 15 | 15 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Zaawansowane systemy diagnostyki obiektów technicznych | 4 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=7 | ||||||||||
|
Specjalność: Inżynieria fotoniczna
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Inżynieria fotoniczna | Obowiązkowe | Optyka fourierowska i dyfrakcyjna | 4 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Projektowanie układów optycznych | 3 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=7 | ||||||||||
|
Specjalność: Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych | Obowiązkowe | Techniki laboratoryjne i badawcze | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Techniki pozycjonowania i mikropozycjonowania | 4 | 225 | 0 | 450 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| ∑=7 | ||||||||||
|
Specjalność: Mikromechanika
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Mikromechanika | Obowiązkowe | Mikro/nanotechnika | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Układy wykonawcze urządzeń mechatronicznych | 4 | 225 | 0 | 225 | 225 | 0 | 45 | sylabus | ||
| ∑=7 | ||||||||||
|
Specjalność: Techniki Multimedialne
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Techniki Multimedialne | Obowiązkowe | Kompozycja obrazu filmowego i techniki operatorskie | 3 | 225 | 0 | 450 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
| Standardy i rejestracja danych multimedialnych | 4 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=7 | ||||||||||
|
Specjalność: Współrzędnościowe systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Współrzędnościowe systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Zaawansowane techniki pomiarowe topografii powierzchni | 4 | 450 | 0 | 450 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
| Zarządzanie Laboratorium Pomiarowym | 3 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=7 | ||||||||||
| Kierunkowe | Obowiązkowe | Praca przejściowa | 5 | 0 | 0 | 0 | 1125 | 0 | 75 | sylabus |
| Systemy mikroprocesorowe w mechatronice | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| ∑=8 | ||||||||||
| Podstawowe | Obieralne | Przedmiot obieralny 1 | 2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Przedmiot obieralny 2 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| Obowiązkowe | Matematyka I - Metody numeryczne | 4 | 450 | 225 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus | |
| Wariantowe | Przedmiot wariantowy - dwa do wyboru | 8 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 90 | sylabus | |
| Modelowanie i symulacja obiektów dynamicznych | 4 | 450 | 0 | 90 | 135 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Modelowanie i symulacja urządzeń mechatronicznych | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Przetwarzanie i rozpoznawanie obrazu | 4 | 450 | 0 | 0 | 225 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Teoria i metody optymalizacji | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Teoria i praktyka eksperymentu | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| ∑=15 | ||||||||||
| Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 2: | ||||||||||
| Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
|
Specjalność: Elektroniczne systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Elektroniczne systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Kompatybilność elektromagnetyczna urządzeń i systemów | 2 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
| Modelowanie systemów pomiarowych | 4 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus | ||
| Techniki sensorowe w mechatronice | 5 | 450 | 0 | 225 | 225 | 0 | 60 | sylabus | ||
| ∑=11 | ||||||||||
|
Specjalność: Inżynieria fotoniczna
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Inżynieria fotoniczna | Obowiązkowe | Mikrosystemy optyczne | 5 | 450 | 0 | 225 | 225 | 0 | 60 | sylabus |
| Polowe pomiary optyczne | 6 | 675 | 0 | 450 | 0 | 0 | 75 | sylabus | ||
| ∑=11 | ||||||||||
|
Specjalność: Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych | Obowiązkowe | Elastyczne systemy wytwarzania | 3 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Fizykochemiczne podstawy procesów technologicznych | 1 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus | ||
| Montaż zespołów elektronicznych | 4 | 15 | 0 | 15 | 15 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Wstęp do nanomatriałów i struktur | 3 | 225 | 225 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=11 | ||||||||||
|
Specjalność: Mikromechanika
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Mikromechanika | Obowiązkowe | Miniaturyzacja urządzeń mechatronicznych | 3 | 375 | 0 | 300 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
| Systemy automatyzacji produkcji | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Urządzenia peryferyjne systemów komputerowych | 4 | 150 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=11 | ||||||||||
|
Specjalność: Techniki Multimedialne
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Techniki Multimedialne | Obowiązkowe | Ilustracja muzyczna w technikach multimedialnych | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Komputerowe modelowanie geometryczne | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| Sensory w technikach multimedialnych | 3 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus | ||
| Techniki laserowe w scenografii widowisk | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=12 | ||||||||||
|
Specjalność: Współrzędnościowe systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Współrzędnościowe systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Audity jakości | 3 | 225 | 0 | 180 | 45 | 0 | 30 | sylabus |
| Przemysłowa tomografia komputerowa | 3 | 225 | 0 | 225 | 225 | 0 | 30 | sylabus | ||
| Skaningowe metody pomiarów współrzędnościowych | 5 | 225 | 0 | 450 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| ∑=11 | ||||||||||
| HES | HES | HES 1 Wybrane zagadnienia gospodarki rynkowej | 2 | 0 | 450 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| ∑=2 | ||||||||||
| Podstawowe | Obieralne | Przedmiot obieralny 3 | 2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Obowiązkowe | Fizyka | 4 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus | |
| Matematyka dyskretna | 4 | 450 | 225 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Systemy mechatroniczne | 7 | 450 | 0 | 0 | 450 | 0 | 75 | sylabus | ||
| ∑=17 | ||||||||||
| Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 3: | ||||||||||
| Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
|
Specjalność: Elektroniczne systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Elektroniczne systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Nanometrologia | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
| Projektowanie podzespołów elektronicznych dla mechatroniki | 1 | 0 | 0 | 0 | 225 | 0 | 15 | sylabus | ||
| ∑=4 | ||||||||||
|
Specjalność: Inżynieria fotoniczna
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Inżynieria fotoniczna | Obowiązkowe | Techniki obliczeniowe w metodach optycznych | 4 | 225 | 225 | 0 | 225 | 0 | 45 | sylabus |
| ∑=4 | ||||||||||
|
Specjalność: Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych | Obowiązkowe | Sterowanie urządzeń technologicznych | 4 | 225 | 0 | 0 | 450 | 0 | 45 | sylabus |
| ∑=4 | ||||||||||
|
Specjalność: Mikromechanika
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Mikromechanika | Wariantowe | Wariantowy 1 | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
| Europejskie uwarunkowania działalności inzynierskiej | 4 | 450 | 0 | 225 | 15 | 0 | 45 | sylabus | ||
| Urządzenia wspomagające rehabilitację | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus | ||
| ∑=4 | ||||||||||
|
Specjalność: Techniki Multimedialne
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Techniki Multimedialne | Obowiązkowe | Kultura słowa i obcowania społecznego | 1 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
| Współczesne metody prezentacji i promocji techniki | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=4 | ||||||||||
|
Specjalność: Współrzędnościowe systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
| Współrzędnościowe systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Interferometria przemysłowa | 4 | 15 | 0 | 30 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
| ∑=4 | ||||||||||
| HES | HES | HES 2 Planowanie przedsięwzięć biznesowych | 1 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| ∑=1 | ||||||||||
| Podstawowe | Obieralne | Przedmiot obieralny 4 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
| Przedmiot obieralny 5 | 2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus | ||
| Obowiązkowe | Praca dyplomowa | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | sylabus | |
| Seminarium dyplomowe | 2 | 0 | 0 | 0 | 450 | 0 | 30 | sylabus | ||
| ∑=25 | ||||||||||
| Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Efekty kierunkowe
Profil ogólnoakademicki - wiedza
- Efekt K_W01
- Ma pogłębioną wiedzę w zakresie niektórych działów matematyki obejmującą elementy matematyki dyskretnej i stosowanej niezbędnej do: a) modelowania i analizy podzespołów i urządzeń mechatronicznych, b) modelowania i analizy systemów mechatronicznych, c) optymalizacji układów.
- Efekt K_W02
- Ma poszerzoną i pogłębioną wiedzę w zakresie fizyki współczesnej, w szczególności fizyki mikroświata i fizyki ciała stałego
- Efekt K_W03
- Posiada uporządkowaną wiedzę w zakresie systemów mechatronicznych, z uwzględnieniem projektowania, eksploatacji i diagnostyki na każdym etapie ich cyklu życia
- Efekt K_W04
- Zna i rozumie metodykę projektowania urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_W05
- Posiada uporządkowaną wiedzę z zakresu teorii i metod optymalizacji
- Efekt K_W06
- Ma pogłębioną i podbudowaną teoretycznie wiedzę z zakresu modelowania i symulacji komputerowych układów dynamicznych.
- Efekt K_W07
- Posiada pogłębioną wiedzę w zakresie oceny wyników, dokumentowania i prezentacji prowadzonych badań i analiz
- Efekt K_W08
- Ma pogłębioną, podbudowaną teoretycznie wiedzę na temat działania oraz budowy wybranych typów systemów mechaniczno-elektroniczno-optyczno-informatycznych
- Efekt K_W09
- Ma pogłębioną wiedzę w zakresie wybranych narzędzi informatycznych stosowanych na etapach projektowania, eksploatacji i badań systemów
- Efekt K_W10
- Ma wiedzę na temat tendencji rozwojowych mechatroniki i najnowszych osiągnięciach w tym obszarze, z uwzględnieniem zagadnień szczegółowych
- Efekt K_W11
- Ma rozszerzoną wiedzę na temat eksploatacji systemów mechatronicznych
- Efekt K_W12
- Ma pogłębioną i szczegółową wiedzę w zakresie mikroprocesorowych układów sterowania
- Efekt K_W13
- Zna algorytmy przetwarzania sygnałów i sterowania
- Efekt K_W14
- Posiada podstawową wiedzę w zakresie mikrosystemów oraz nanosystemów
- Efekt K_W15
- Ma pogłębioną wiedzę w zakresie ochrony własności intelektualnej oraz potrafi korzystać z zasobów informacji i własności intelektualnej
- Efekt K_W16
- Ma pogłębioną wiedzę w zakresie zarządzania i prowadzenia działalności gospodarczej; zna ogólne zasady tworzenia i rozwoju form indywidualnej przedsiębiorczości
Profil ogólnoakademicki - umiejętności
- Efekt K_U01
- Potrafi pozyskiwać informacje z literatury, baz danych i innych źródeł, potrafi integrować informacje, wyciągać z nich wnioski a następnie formułować opinie
- Efekt K_U02
- Potrafi, pracując indywidualnie lub w zespole, ocenić pracochłonność zadania i opracować harmonogram jego realizacji; może pokierować pracą zespołu prowadzącego projekt lub badania.
- Efekt K_U03
- Potrafi przygotować dokumentację zadania dotyczącego systemu mechatronicznego lub jego podsystemu - o charakterze projektowym lub badawczym, opracować opis uzyskanych wyników oraz przedstawić je za pomocą różnych technik, w tym przygotować syntetyczna prezentację i poprowadzić dyskusję na jej temat
- Efekt K_U04
- Posługuje się językiem angielskim lub innym językiem międzynarodowym w stopniu wystarczającym do porozumiewania się w sprawach zawodowych, czytania ze zrozumieniem literatury fachowej i wygłoszenia prezentacji na temat realizowanego zadania projektowego lub badawczego
- Efekt K_U05
- Zna możliwości i kierunki dalszego uczenia się i potrafi realizować proces samokształcenia
- Efekt K_U06
- Potrafi zastosować, opracować i modyfikować modele matematyczne systemów, zjawisk i procesów - do analizy i projektowania systemów mechatronicznych
- Efekt K_U07
- Potrafi - stosując odpowiednie narzędzia symulacyjne - zaplanować i przeprowadzić eksperymenty symulacyjne dotyczące systemu mechatronicznego i jego komponentów
- Efekt K_U08
- Potrafi zaplanować i przeprowadzić badania doświadczalne oraz zinterpretować ich wyniki w odniesieniu do systemu mechatronicznego lub komponentów mechanicznych, urządzeń wykonawczych, sensorów i sterowników
- Efekt K_U09
- Potrafi sformułować zadane optymalizacyjne i rozwiązać je z zastosowaniem odpowiednich narzędzi
- Efekt K_U10
- Potrafi efektywnie zastosować techniki komputerowe w projektowaniu elementów składowych systemu mechatronicznego
- Efekt K_U11
- Potrafi wykorzystać nowoczesne materiały i techniki wytwarzania w projektowanych urządzeniach i systemach
- Efekt K_U12
- Potrafi zintegrować wiedzę dotyczącą układów mechanicznych, elektronicznych i automatyki podczas formułowania i rozwiązywania zadania inzynierskiego
- Efekt K_U13
- Umie przeprowadzić analizę wyników eksperymentów fizycznych lub symulacyjnych i przedstawić ich wyniki w formie liczbowej i graficznej, wyciągając właściwe wnioski
- Efekt K_U14
- Umie zastosować technikę optoelektroniczną w projektowanych systemach i podczas ich badań
- Efekt K_U15
- Umie zaprojektować i uruchomić układy pomiarowe systemu mechatronicznego
- Efekt K_U16
- Potrafi sformułować szczegółowe wymagania dla układu sterowania systemu mechatronicznego
- Efekt K_U17
- Potrafi zaprojektować, zestawić i uruchomić stanowisko badawcze do badań wybranych właściwości statycznych i dynamicznych podzespołu systemu mechatronicznego
- Efekt K_U18
- Potrafi zaprojektować zaawansowany technicznie podzespół systemu mechatronicznego
- Efekt K_U19
- Potrafi - uwzględniając zadaną specyfikację - zaprojektować mikroprocesorowy sterownik stosowany w systemie mechatronicznym
Profil ogólnoakademicki - kompetencje społeczne
- Efekt K_K01
- Rozumie potrzebę podnoszenia kompetencji zawodowych, społecznych i osobistych – w odniesieniu do samego siebie i innych osób; zna formy ciągłego dokształcania: studia 3 stopnia i podyplomowe, kursy i staże
- Efekt K_K02
- Zna i rozumie pozatechniczne aspekty działalności inżynierskiej w obszarze mechatroniki, w tym jej wpływ na środowisko naturalne i rynek pracy
- Efekt K_K03
- Jest świadomy roli absolwenta Politechniki Warszawskiej i Wydziału Mechatroniki PW w sensie popularyzacji wiedzy w zakresie mechatroniki w społeczeństwie
- Efekt K_K04
- Ma świadomość odpowiedzialności za pracę własną i zespołu, którego jest członkiem i zna zasady działania w sposób profesjonalny i zgodny z etyką zawodową
- Efekt K_K05
- Potrafi funkcjonować w sposób przedsiębiorczy