Program | Wydział | Rok akademicki | Stopień |
---|---|---|---|
Mechatronika | Wydział Mechatroniki | 2014/2015 | inż |
Rodzaj | Kierunek | Koordynator ECTS | |
Stacjonarne | Mechatronika | Prodziekan ds. Studiów, dr inż. Adam Styk, prodziekan.studia@mchtr.pw.edu.pl, +48 22 234 8456 |
Cele:
Absolwenci kierunku studiów MECHATRONIKA posiadają podstawową wiedzę z zakresu mechaniki, budowy i eksploatacji maszyn, elektroniki, informatyki, automatyki i robotyki oraz sterowania. Posiadają umiejętności integracji t ej wiedzy przy projektowaniu, wytwarzaniu i eksploatacji produktów oraz analizy produktów w ich otoczeniu. Absolwenci są przygotowani do uczestniczenia w interdyscyplinarnych zespołach rozwiązujących problemy związane z: konstrukcją; wytwarzaniem; sprzedażą; eksploatacją; serwisowaniem i diagnozowaniem układów mechatronicznych oraz maszyn i urządzeń, w których one występują. Absolwenci studiów znają język obcy na poziomie biegłości B2 Europejskiego Systemu Opisu Kształcenia Językowego Rady Europy oraz posiadają umiejętności posługiwania się językiem specjalistycznym z zakresu kierunku kształcenia. Absolwenci są przygotowani do pracy w: przemyśle wytwarzającym układy mechatroniczne – elektromaszynowym, motoryzacyjnym, sprzętu gospodarstwa domowego, lotniczym, obrabiarkowym; przemyśle oraz innych placówkach eksploatujących i serwisujących układy mechatroniczne oraz maszyny i urządzenia, w których są one zastosowane. Absolwenci są przygotowani do podjęcia studiów drugiego stopnia. Na Wydziale Mechatroniki PW w ramach kierunku Mechatronika oferowanych jest 7 specjalności studiów I stopnia, z możliwością kontynuacji studiów na II stopniu. Inżynieria Fotoniczna (I) jest specjalnością interdyscyplinarną łączącą fizykę i matematykę stosowaną z problemami technicznymi w dziedzinie projektowania i wytwarzania przyrządów optycznych oraz optycznych i fotonicznych metod pomiaru i przetwarzania informacji. Celem kształcenia jest przygotowanie specjalistów w zakresie budowy systemów fotonicznych o skrajnie dużych dokładnościach pomiarowych metodami interferencyjnymi i holograficznymi, automatyzacji pomiarów, budowy systemów automatycznego rozpoznawania obrazów (widzenie maszynowe), aparatury kosmicznej, medycznej, ochrony środowiska, budowy i badań sprzętu optycznego i optoelektronicznego (w tym MEMS i MOEMS), itp. Otrzymane wykształcenie predysponuje również absolwentów do samodzielnej pracy badawczej i naukowej. Specjalność Inżynieria Jakości (I i II stopień) obejmuje zagadnienia związane z projektowaniem i stosowaniem przyrządów i systemów pomiarowych w procesach sterowania jakością produkcji oraz badania jakości wyrobów. Studenci poznają metody pomiarów różnych wielkości fizycznych jak: długości, kąty, ciśnienia, masy, siły, temperatury i natężenia przepływu, a także sposoby akwizycji i przetwarzania danych w cyfrowych systemach pomiarowych. Absolwenci tej specjalności są specjalistami w zakresie projektowania przyrządów i systemów pomiarowych, a także systemów jakości zgodnych z wymaganiami norm europejskich. Studenci specjalności Inżynieria Wytwarzania Wyrobów Mechatronicznych (I i II stopień) otrzymują przygotowanie teoretyczne i praktyczne do stosowania nowych zdobyczy nauki i techniki, do tworzenia i użytkowania nowoczesnych urządzeń precyzyjnych i elektronicznych. Przedmioty specjalistyczne obejmują podstawy konstrukcji, zaawansowane technologie, projektowanie urządzeń technologicznych oraz problemy zarządzania jakością i niezawodnością precyzyjnych wyrobów mechaniczno - elektronicznych. Absolwenci specjalności znajdują zatrudnienie w biurach projektowych i firmach projektujących urządzenia precyzyjne i elektroniczne oraz oprzyrządowanie niezbędne do realizacji tych procesów. Celem kształcenia na specjalności Mikromechanika (I i II stopień) jest przygotowanie studentów do projektowania urządzeń mechatronicznych i rozwiązywania złożonych, interdyscyplinarnych problemów projektowo-konstrukcyjnych. Posiadają oni niezbędną praktyczną wiedzę na temat metod i narzędzi projektowania komputerowego, sterowania mikroprocesorowego, napędów i urządzeń wykonawczych oraz sensoryki urządzeń. Absolwenci są przygotowani do projektowania i eksploatacji urządzeń precyzyjnych i drobnych, układów napędowych do precyzyjnego pozycjonowania, sprzętu biomechanicznego (np. stabilizatorów ortopedycznych), urządzeń komputerowych i multimedialnych, automatów użytkowych oraz zespołów urządzeń mechanizacji, automatyzacji i robotyzacji procesów technologicznych przemysłu precyzyjnego i elektronicznego. Specjalność Sensory i Systemy Pomiarowe (I i II stopień) łączy fizykę i matematykę stosowaną z mechaniką, elektroniką, automatyką i metrologią. Przygotowuje studentów do projektowania przetworników, czujników i systemów do pomiaru ciśnienia, masy, siły, temperatury, natężenia przepływu, metod i urządzeń kontrolnych do rozpoznawania wad obiektów na podstawie sygnałów przetworników wiroprądowych, opracowania nowych metod pomiarowych, prowadzenia analizy dokładności pomiarów, a także projektowania systemów pomiarowych i automatyzacji procesów związanych z technikami wytwarzania przemysłowego. Specjalność Techniki multimedialne (I i II stopień) kształci w zakresie budowy i eksploatacji środków audiowizualnych, projektowania wyposażenia technicznego studiów radiowych i telewizyjnych, sal dydaktycznych i konferencyjnych, wyposażenia planu filmowego itp. Podstawą programu nauczania jest informatyka, konstrukcja, technologia, metrologia i automatyka – ukierunkowane na budowę i eksploatację sprzętu do realizacji zadań multimedialnych. Absolwent tej specjalności otrzymuje dodatkowe wykształcenie humanistyczne obejmujące problematykę twórczości artystycznej, zagadnienia historii kultury i sztuki, podstawy psychologii a w pracy zawodowej współdziała z osobami ze środowisk artystycznych. Specjalność Urządzenia Elektromedyczne (I stopień – dla absolwentów przeznaczone są studia II stopnia kierunku Inżynieria Biomedyczna) ma charakter interdyscyplinarny łączący biologię, medycynę i technikę. Jej istotą jest stosowanie techniki w specyficznych warunkach kontaktu z żywym organizmem - do jego badania i leczenia lub wspomagania funkcji poszczególnych narządów. Celem kształcenia jest przygotowanie specjalistów w zakresie techniki medycznej obejmującej metody i układy pomiarowe wielkości fizjologicznych, budowę urządzeń diagnostycznych i terapeutycznych, a także nadzór nad ich eksploatacją w warunkach szpitalnych. Absolwenci są przygotowania zarówno do szkolenia personelu i współpracy z lekarzami w zakresie obsługi tych urządzeń, jak i prowadzenia prac nad medycznymi systemami aparaturowymi.
Warunki przyjęć:
Przyjęcie na Wydział Mechatroniki PW: wspólne na kierunki AUTOMATYKA i ROBOTYKA oraz MECHATRONIKA + na podstawie konkursu matur wg Zasad uchwalanych przez Senat PW na dany rok akademicki. Wybór kierunku po II semestrze studiów na podstawie rankingu (średnia ważona z semestrów I-III)
Efekty uczenia się
Semestr 1: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
HES | HES | Ekonomia | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=2 | ||||||||||
Podstawowe | Obowiązkowe | Grafika inżynierska I | 3 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Matematyka I | 10 | 45 | 60 | 0 | 0 | 0 | 105 | sylabus |
  |   | Materiałoznawstwo | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy metrologii | 5 | 450 | 0 | 450 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Propedeutyka informatyki | 3 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Zasady programowania strukturalnego I | 5 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
∑=28 | ||||||||||
Szkolenia | Obowiązkowe | Szkolenie BHP | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | sylabus |
  |   | Wprowadzenie do informacji naukowej | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 2 | sylabus |
  |   | Wprowadzenie do informacji naukowej | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 2 | sylabus |
Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=0 | ||||||||||
Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 2: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
Obieralne | Obieralne | Podstawy techniki fotograficznej | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=2 | ||||||||||
Podstawowe | Obowiązkowe | Fizyka I | 6 | 45 | 30 | 0 | 0 | 0 | 75 | sylabus |
  |   | Grafika inżynierska II | 3 | 0 | 0 | 0 | 450 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Matematyka II | 6 | 30 | 45 | 0 | 0 | 0 | 75 | sylabus |
  |   | Mechanika | 5 | 30 | 30 | 0 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Podstawy Technik Wytwarzania cz.I | 3 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Wstęp do technik komputerowych | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Zasady programowania strukturalnego II | 3 | 0 | 0 | 0 | 225 | 0 | 15 | sylabus |
∑=28 | ||||||||||
Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=0 | ||||||||||
Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 3: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
Język Obcy | Język Obcy | Język Obcy 1 | 4 | 0 | 60 | 0 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
∑=4 | ||||||||||
Podstawowe | Obowiązkowe | Elektronika I | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Elektrotechnika I | 3 | 450 | 225 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Fizyka II | 3 | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Matematyka III | 3 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Miernictwo elektryczne | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy konstrukcji urządzeń precyzyjnych I | 3 | 225 | 0 | 0 | 450 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Podstawy Technik Wytwarzania cz.II | 4 | 30 | 0 | 0 | 30 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | WYTRZYMAŁOŚĆ MATERIAŁÓW | 5 | 15 | 30 | 15 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
∑=26 | ||||||||||
Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=0 | ||||||||||
Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 4: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
HES | HES | HES 2 | 2 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=2 | ||||||||||
Język Obcy | Język Obcy | Język Obcy 2 | 4 | 0 | 60 | 0 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
∑=4 | ||||||||||
Podstawowe | Obowiązkowe | Elektronika 2 | 4 | 30 | 0 | 30 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Elektrotechnika II | 2 | 0 | 0 | 15 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Optomechatronika | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Podstawy automatyki I | 5 | 45 | 15 | 0 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Podstawy konstrukcji urządzeń precyzyjnych II | 5 | 450 | 0 | 225 | 225 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Podstawy pomiarów współrzędnościowych | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=22 | ||||||||||
Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | Wychowanie Fizyczne | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=0 | ||||||||||
Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 5: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
Specjalność: Elektroniczne systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
Elektroniczne systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Informatyka w systemach pomiarowych 1 | 3 | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Informatyka w systemach pomiarowych 2 | 1 | 0 | 0 | 0 | 225 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Programowanie w systemie Matlab | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Systemy Pomiarowe | 3 | 450 | 0 | 0 | 225 | 0 | 45 | sylabus |
  | Wariantowe | Przedmiot wariantowy specjalizacji 1 | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Aplikacje internetowe w zastosowaniach inżynierskich | 2 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Metody i techniki sztucznej inteligencji | 2 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Systemy mikroprocesorowe w mechatronice | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=12 | ||||||||||
Specjalność: Inżynieria Fotoniczna
(Rozwiń)
|
||||||||||
Inżynieria Fotoniczna | Obowiązkowe | Materiałoznawstwo optoelektroniczne | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Optyka instrumentalna-1 | 5 | 450 | 450 | 0 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Podstawy fotoniki | 5 | 675 | 0 | 225 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
∑=12 | ||||||||||
Specjalność: Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych
(Rozwiń)
|
||||||||||
Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych | Obowiązkowe | Elementy i podzespoły mechatroniczne | 3 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Napędy elektromechaniczne urządzeń mechatronicznych 1 | 1 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Przetwarzanie sygnałów | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technologia Urządzeń Mechatroniki I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technologia Urządzeń Mechatroniki II | 3 | 15 | 0 | 15 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
∑=12 | ||||||||||
Specjalność: Mikromechanika
(Rozwiń)
|
||||||||||
Mikromechanika | Obowiązkowe | Napędy elektromechaniczne urządzeń mechatronicznych 1 | 1 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Napędy elektromechaniczne urządzeń mechatronicznych 2 | 3 | 0 | 0 | 225 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Urządzenia automatyzacji produkcji | 4 | 450 | 15 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Współczesne narzędzia wspomagające projektowanie | 2 | 0 | 0 | 15 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Wybrane Techniki Pomiarowe | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=12 | ||||||||||
Specjalność: Techniki multimedialne
(Rozwiń)
|
||||||||||
Techniki multimedialne | Obowiązkowe | Fotografia - rejestracja i przetwarzanie obrazu | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Grafika komputerowa | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy akustyki i elektroakustyki | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Przetwarzanie sygnałów | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Wstęp do technik multimedialnych | 2 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
∑=13 | ||||||||||
Specjalność: Urządzenia elektromedyczne
(Rozwiń)
|
||||||||||
Urządzenia elektromedyczne | Obowiązkowe | Fizykomedyczne podstawy inżynierii biomedycznej | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Materiały funkcjonalne w urządzeniach mechatroniki | 1 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Programowanie obiektowe (JAVA). | 2 | 15 | 15 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Przetwarzanie sygnałów | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technologia urządzeń mechatroniki I | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=12 | ||||||||||
Specjalność: Współrzędnościowe Systemy Pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
Współrzędnościowe Systemy Pomiarowe | Obowiązkowe | Analiza niepewności pomiarów | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Informatyka w systemach pomiarowych | 3 | 0 | 0 | 30 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Metrologia Przemysłowa | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technologia Urządzeń Mechatroniki I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technologia Urządzeń Mechatroniki I | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Wirtualne Przyrządy Pomiarowe | 1 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
∑=15 | ||||||||||
Język Obcy | Język Obcy | Język Obcy 3 | 4 | 0 | 60 | 0 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
∑=4 | ||||||||||
Podstawowe | Obowiązkowe | Elektronika 3 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy automatyki II | 3 | 0 | 0 | 450 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy mechaniki płynów | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Robotyka | 3 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Zarządzanie jakością | 2 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
∑=14 | ||||||||||
Obieralne | Kreatywny Semestr Projektowania | Informacje | ||||||||
Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 6: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
Specjalność: Elektroniczne systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
Elektroniczne systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Elektroniczne techniki pomiarowe | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Inteligentna aparatura pomiarowa | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Materiały funkcjonalne w sensorach mechatronicznych | 3 | 15 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Mikro- i makrogeometria powierzchni | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Sensory i przetworniki wielkości termodynamicznych | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Metody statystyczne w badaniach przemysłowych | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  | Wariantowe | Przedmiot wariantowy specjalizacji 2 | 3 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=21 | ||||||||||
Specjalność: Inżynieria Fotoniczna
(Rozwiń)
|
||||||||||
Inżynieria Fotoniczna | Obieralne | Przedmioty obieralne | 4 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Sensory światłowodowe | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technika światłowodowa i telekomunikacja | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  | Obowiązkowe | Budowa i eksploatacja urządzeń mechatroniki | 4 | 450 | 0 | 0 | 225 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Integracja programowa systemów multimedialnych I | 3 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Integracja programowa systemów multimedialnych II | 1 | 0 | 0 | 225 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Konstrukcja układów optycznych | 4 | 15 | 0 | 0 | 30 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Optyka instrumentalna - 2 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika laserowa | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technologia sprzętu optoelektronicznego | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
∑=25 | ||||||||||
Specjalność: Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych
(Rozwiń)
|
||||||||||
Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych | Obowiązkowe | Materiały elektroniczne | 3 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Mikro- i makrogeometria powierzchni | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Programowanie Obiektowe dla Zastosowań Inżynierskich | 5 | 30 | 0 | 0 | 30 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Projektowanie zespołów elektronicznych | 4 | 225 | 0 | 0 | 450 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa II | 1 | 0 | 0 | 225 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Technologia wyrobów elektronicznych I | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Urządzenia technologiczne elektroniki | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  | Wariantowe | Wariantowy specjalności 1 | 2 | 225 | 0 | 180 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Techniki Kształtowania Mikroelementów | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technologia systemów optoelektronicznych | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
∑=26 | ||||||||||
Specjalność: Mikromechanika
(Rozwiń)
|
||||||||||
Mikromechanika | Obowiązkowe | Aparatura biomechaniczna | 4 | 15 | 0 | 15 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Metodyka projektowania urządzeń mechatronicznych | 3 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy teorii mechanizmów | 3 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Projektowanie Urządzeń mechatronicznych | 3 | 0 | 0 | 0 | 450 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Symulacja w projektowaniu urządzeń precyzyjnych | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Trybologia i mikrotrybologia | 3 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Wybrane zagadnienia wzornictwa przemysłowego | 3 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
  | Wariantowe | Przedmiot wariantowy 1 | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Współczesne metody prezentacji i promocji techniki | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=26 | ||||||||||
Specjalność: Techniki multimedialne
(Rozwiń)
|
||||||||||
Techniki multimedialne | Obowiązkowe | Elementy wiedzy o kulturze | 2 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Integracja programowa systemów multimedialnych I | 3 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy funkcjonowania człowieka w świecie multimedialnym | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 35 | sylabus |
  |   | Podstawy realizacji dźwięku | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika oświetleniowa w multimediach | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technika telewizyjna 1 | 4 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Urządzenia Multimedialne 1 | 2 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Urządzenia Multimedialne 2 | 3 | 0 | 0 | 450 | 225 | 0 | 45 | sylabus |
  | Wariantowe | PRZEDMIOT WARIANTOWY | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Techniki tworzenia DVD | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
∑=26 | ||||||||||
Specjalność: Urządzenia elektromedyczne
(Rozwiń)
|
||||||||||
Urządzenia elektromedyczne | Obowiązkowe | Biomechanika inżynierska | 5 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Elektroniczna aparatura medyczna I | 4 | 675 | 0 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Projektowanie zespołów elektronicznych | 4 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Propedeutyka medycyny | 1 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Radiologia | 5 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa I | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika mikroprocesorowa II | 1 | 0 | 0 | 225 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Technika ultradźwiękowa w diagnostyce medycznej | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  | Wariantowe | PRZEDMIOT WARIANTOWY | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Logiczne układy programowalne | 2 | 0 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
∑=26 | ||||||||||
Specjalność: Współrzędnościowe Systemy Pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
Współrzędnościowe Systemy Pomiarowe | Obieralne | Przedmiot obieralny specjalności | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Metody poszukiwania twórczych rozwiązań | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Pomiary złożonych elementów maszynowych | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  | Obowiązkowe | Czujniki w sterowaniu procesem produkcji | 3 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Elektroniczne techniki pomiarowe | 3 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Materiały funkcjonalne w sensorach mechatronicznych | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Metody statystyczne w badaniach przemysłowych | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Mikro- i makrogeometria powierzchni | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Nieniszczące badania materiałów | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Projektowanie urządzeń pomiarowych | 6 | 225 | 0 | 0 | 675 | 0 | 60 | sylabus |
  |   | Standaryzacja w technice | 4 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
∑=28 | ||||||||||
HES | HES | HES 3 | 2 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=2 | ||||||||||
Kierunkowe | Obieralne | Przedmioty obieralne | 2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Wprowadzenie do MES i systemu ANSYS | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
∑=2 | ||||||||||
Podstawowe | Obowiązkowe | Praktyka przeddyplomowa | 4 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 160 | sylabus |
∑=0 | ||||||||||
Obieralne | Kreatywny Semestr Projektowania | Informacje | ||||||||
Suma semestr: | ∑= | |||||||||
Semestr 7: | ||||||||||
Blok | Grupa | nazwa | ECTS | Wykłady | Ćwiczenia | Laboratoria | Projekt | Lekcje komputerowe | Suma | sylabus |
Specjalność: Elektroniczne systemy pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
Elektroniczne systemy pomiarowe | Obowiązkowe | Laserowe przetworniki pomiarowe | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Metrologia Przepływów | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Sensoryka i Aktuatoryka Elektromagnetyczna | 2 | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Układy i zespoły elektroniczne | 3 | 30 | 0 | 0 | 30 | 0 | 60 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Specjalność: Inżynieria Fotoniczna
(Rozwiń)
|
||||||||||
Inżynieria Fotoniczna | Obowiązkowe | Cyfrowe metody przetwarzania obrazu I | 1 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Opto-numeryczne metody pomiaru | 3 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Technika świetlna | 1 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Urządzenia i systemy fotoniczne | 3 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Widzenie maszynowe | 3 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Specjalność: Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych
(Rozwiń)
|
||||||||||
Inżynieria wytwarzania wyrobów mechatronicznych | Obowiązkowe | Eksploatacja urządzeń mechatronicznych | 3 | 30 | 0 | 0 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Podstawy MES | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technologia wyrobów elektronicznych II | 4 | 15 | 0 | 15 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Transmisja informacji | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Specjalność: Mikromechanika
(Rozwiń)
|
||||||||||
Mikromechanika | Obowiązkowe | Mikrourządzenia MEMS | 2 | 30 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy technik badań urządzeń precyzyjnych | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Urządzenia Multimedialne | 3 | 15 | 0 | 30 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Zagadnienia jakości i niezawodności w projektowaniu | 2 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  | Wariantowe | Przedmiot wariantowy 2 | 2 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Specjalność: Techniki multimedialne
(Rozwiń)
|
||||||||||
Techniki multimedialne | Obowiązkowe | Cyfrowe metody przetwarzania obrazu I | 1 | 225 | 0 | 0 | 0 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Cyfrowe metody przetwarzania obrazu II | 2 | 0 | 0 | 225 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Podstawy poligrafii i projektowania DTP | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Projektowanie interfejsów sprzętowych i programowych | 2 | 225 | 0 | 225 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Technika Telewizyjna 2 | 1 | 0 | 0 | 0 | 15 | 0 | 15 | sylabus |
  |   | Technika wizyjna | 3 | 450 | 0 | 450 | 0 | 0 | 60 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Specjalność: Urządzenia elektromedyczne
(Rozwiń)
|
||||||||||
Urządzenia elektromedyczne | Obowiązkowe | Elektroniczna aparatura medyczna II | 2 | 0 | 0 | 15 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Sensory i pomiary wielkości nieelektrycznych | 2 | 450 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Techniki tomograficzne | 3 | 450 | 0 | 225 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  | Wariantowe | PRZEDMIOT WARIANTOWY UELM 2 | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | PRZEDMIOT WARIANTOWY UELM 3 | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Układy elektroniki medycznej | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 30 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Specjalność: Współrzędnościowe Systemy Pomiarowe
(Rozwiń)
|
||||||||||
Współrzędnościowe Systemy Pomiarowe | Obieralne | Podstawy systemów baz danych | 2 | 15 | 0 | 0 | 15 | 0 | 0 | sylabus |
  |   | Aplikacje internetowe w zastosowaniach inżynierskich | 2 | 225 | 0 | 0 | 225 | 0 | 30 | sylabus |
  | Obowiązkowe | Atestacja aparatury pomiarowej | 3 | 225 | 0 | 450 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Eksploatacja urządzeń mechatronicznych | 3 | 30 | 0 | 0 | 15 | 0 | 45 | sylabus |
  |   | Maszyny i Roboty Pomiarowe | 3 | 30 | 0 | 15 | 0 | 0 | 45 | sylabus |
∑=11 | ||||||||||
Kierunkowe | Obieralne | Systemy DCS | 2 | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Brydż sportowy | 2 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | Brydż sportowy | 2 | 0 | 30 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  |   | JAVA - tworzenie grafiki i aplikacji sieciowych | 2 | 15 | 15 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
  | Obowiązkowe | Praca dyplomowa | 15 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | sylabus |
  |   | Seminarium dyplomowe | 2 | 0 | 450 | 0 | 0 | 0 | 30 | sylabus |
∑=19 | ||||||||||
Obieralne | Kreatywny Semestr Projektowania | Informacje | ||||||||
Suma semestr: | ∑= |
Efekty kierunkowe
Profil ogólnoakademicki - wiedza
- Efekt K_W01
- Ma wiedzę w zakresie matematyki, obejmującą analizę, algebrę, rachunek prawdopodobieństwa i metody statystyczne oraz elementy przekształceń całkowych, niezbędną do:a) opisu i analizy działania układów mechanicznych,b) opisu i analizy działania układów automatyki,c) opisu i działania obwodów elektrycznych i układów elektronicznych.
- Efekt K_W02
- Ma wiedzę w zakresie fizyki, w zakresie typowym dla uniwersytetu technicznego, w tym w zakresie mechaniki klasycznej, elektrodynamiki, optyki i fotoniki, fizyki ciała stałego, niezbędną do rozumienia zjawisk fizycznych w przyrodzie i technice.
- Efekt K_W03
- Posiada uporządkowaną wiedzę w zakresie mechaniki i wytrzymałości materiałów (w tym mechaniki przepływów) niezbędną do projektowania struktur mechanicznych urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_W04
- Posiada podstawową wiedzę w zakresie informatyki, z uwzględnieniem oprogramowania biurowego, programowania w językach wyższego rzędu, korzystania z sieci komputerowych i aplikacji internetowych oraz z systemów i aplikacji bazodanowych.
- Efekt K_W05
- Ma podstawową wiedzę w zakresie metodyki i technik programowania
- Efekt K_W06
- Ma uporządkowana wiedzę na temat korzystania z komputerowego wspomagania przy rozwiązywaniu problemów technicznych.
- Efekt K_W07
- Ma uporządkowaną i podbudowaną wiedzę w zakresie elektrotechniki, układów elektronicznych analogowych i cyfrowych
- Efekt K_W08
- Posiada podstawową wiedzę w zakresie układów mikroprocesorowych i mikrokontrolerów w zastosowaniu do sterowania urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_W09
- Posiada uporządkowaną i podbudowaną wiedzę w zakresie automatyki i robotyki
- Efekt K_W10
- Ma podstawową wiedzę w zakresie metrologii, zna i rozumie metody pomiaru wielkości fizycznych charakteryzujących pracę urządzeń mechatronicznych, w szczególności wielkości mechanicznych i elektrycznych
- Efekt K_W11
- Ma uporządkowaną wiedzę na temat czujników stosowanych w urządzeniach mechatronicznych
- Efekt K_W12
- Ma podstawową wiedzę na temat działania oraz budowy złożonych, zintegrowanych systemów mechaniczno-elektroniczno-optyczno-informatycznych
- Efekt K_W13
- Ma uporządkowaną wiedzę w zakresie grafiki inżynierskiej oraz konstrukcji urządzeń precyzyjnych z zastosowaniem komputerowego wspomagania projektowania
- Efekt K_W14
- Ma uporządkowana wiedzę na temat układów napędowych stosowanych w urządzeniach mechatronicznych, w szczególności napędów elektrycznych
- Efekt K_W15
- Posiada elementarną wiedzę na temat materiałów, w szczególności w zakresie doboru materiałów konstrukcyjnych do zastosowań technicznych
- Efekt K_W16
- Posiada uporządkowaną wiedzę na temat inżynierii wytwarzania zespołów mechanicznych i elektronicznych wchodzących w skład urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_W17
- Orientuje się w bieżącym stanie oraz tendencjach rozwojowych mechatroniki
- Efekt K_W18
- Ma podstawową wiedzę z zakresu systemów optomechatronicznych w skali makro i mikro stosowanych w inteligentnych wyrobach i procesach przemysłowych
- Efekt K_W19
- Ma elementarną wiedzę na temat cyklu życia urządzeń i systemów mechatronicznych
- Efekt K_W20
- Ma elementarną wiedzę w zakresie ochrony własności intelektualnej oraz prawa patentowego
- Efekt K_W21
- Ma elementarną wiedzę w zakresie zarządzania, w tym zarządzania jakością i prowadzenia działalności gospodarczej
- Efekt K_W22
- Zna ogólne zasady tworzenia i rozwoju form indywidualnej przedsiębiorczości
Profil ogólnoakademicki - umiejętności
- Efekt K_U01
- Potrafi pozyskiwać informacje z literatury, baz danych i innych źródeł, potrafi integrować informacje, wyciągać z nich wnioski a następnie formułować opinie
- Efekt K_U02
- Potrafi przygotować w języku polskim dokumentację zadania inżynierskiego i opis jego wyników i przedstawić je za pomocą różnych technik, w szczególności umie opracowywać schematy blokowe urządzeń systemów i dokumentację techniczną podzespołów.
- Efekt K_U03
- Potrafi przygotować i przedstawić krótką prezentację ustną poświęconą wynikom realizacji zadania inżynierskiego
- Efekt K_U04
- Posługuje się językiem angielskim lub innym językiem międzynarodowym w stopniu wystarczającym do porozumiewania się, czytania ze zrozumieniem dokumentacji technicznej i źródeł informacji oraz przygotowania prezentacji ustnej dotyczącej zagadnień dotyczących mechatroniki
- Efekt K_U05
- Ma umiejętność samokształcenia i pogłębiania kwalifikacji
- Efekt K_U06
- Umie zastosować aparat matematyczny do opisu i analizy zagadnień mechanicznych (w tym mechaniki płynów), elektrycznych i elektronicznych oraz w obszarze automatyki
- Efekt K_U07
- Umie wykorzystać prawa fizyki przy projektowaniu i eksploatacji urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_U08
- Potrafi dobierać materiały konstrukcyjne podczas projektowania urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_U09
- Potrafi porównać rozwiązania prostych układów elektronicznych ze względu na zadane kryteria użytkowe.
- Efekt K_U10
- Potrafi zaplanować i przeprowadzić eksperymenty (zarówno pomiary, jak i symulacje komputerowe) dotyczące wyznaczania wielkości mechanicznych i elektrycznych charakterystycznych dla urządzeń mechatronicznych
- Efekt K_U11
- Umie przeprowadzić analizę wyników przeprowadzonych eksperymentów fizycznych lub symulacyjnych i przedstawić ich wyniki w formie liczbowej i graficznej, wyciągając właściwe wnioski
- Efekt K_U12
- Umie zastosować technikę optoelektroniczną w projektowanych urządzeniach i podczas ich badań
- Efekt K_U13
- Zna metody oceny poprawności pomiaru i oceny jakości narzędzi pomiarowych
- Efekt K_U14
- Potrafi zaprojektować zespoły mechaniczne urządzenia z wykorzystaniem właściwie dobranych narzędzi programowych
- Efekt K_U15
- Potrafi dobrać czujniki do zastosowania w projektowanym urządzeniu mechatronicznym
- Efekt K_U16
- Potrafi dokonać analizy sygnałów stosując odpowiednie narzędzia programowe
- Efekt K_U17
- Potrafi zaprojektować układy regulacji analogowej i cyfrowej o typowej strukturze
- Efekt K_U18
- Potrafi zaprojektować algorytm sterowania urządzenia mechatronicznego, w szczególności realizowany w technice mikroprocesorowej
- Efekt K_U19
- Potrafi zaprojektować proste układy elektroniczne przeznaczone do zastosowania w urządzeniach mechatronicznych
- Efekt K_U20
- Potrafi dobrać techniki wytwarzania komponentów projektowanego urządzenia mechatronicznego
- Efekt K_U21
- Potrafi projektować urządzenie z wykorzystaniem podzespołów katalogowych
- Efekt K_U22
- Potrafi posługiwać się narzędziami informatycznymi w procesie projektowania, eksploatacji i badań urządzenia mechatronicznego
- Efekt K_U23
- Potrafi opracować specyfikację prostego urządzenia mechanicznego, układu elektronicznego i urządzenia mechatronicznego z uwzględnieniem ich funkcji
- Efekt K_U24
- Umie przeprowadzić podstawowe obliczenia wytrzymałościowe projektowanych struktur mechanicznych urządzeń mechatronicznych, jak również przeprowadzić analizę układów mechanicznych
- Efekt K_U25
- Potrafi wykonać podstawową analizę ekonomiczną przedsięwzięcia inżynierskiego
- Efekt K_U26
- Potrafi przy formułowaniu i realizacji zadań inżynierskich w obszarze urządzeń i systemów mechatronicznych zwracać uwagę na aspekty pozatechniczne, w tym środowiskowe, ekonomiczne i prawne
- Efekt K_U27
- Rozumie i stosuje zasady BHP, w tym dotyczące środowiska przemysłowego
Profil ogólnoakademicki - kompetencje społeczne
- Efekt K_K01
- Rozumie potrzebę podnoszenia kompetencji zawodowych, społecznych i osobistych – w odniesieniu do samego siebie i innych osób; zna formy ciągłego dokształcania: studia 2 i 3 stopnia, studia podyplomowe, kursy i staże
- Efekt K_K02
- Zna i rozumie pozatechniczne aspekty działalności inżynierskiej w obszarze mechatroniki, w tym jej wpływ na środowisko naturalne i rynek pracy
- Efekt K_K03
- Jest świadomy roli absolwenta Politechniki Warszawskiej i Wydziału Mechatroniki PW w sensie popularyzacji wiedzy w zakresie mechatroniki w społeczeństwie
- Efekt K_K04
- Ma świadomość odpowiedzialności za pracę własną i zespołu, którego jest członkiem i zna zasady działania w sposób profesjonalny i zgodny z etyką zawodową
- Efekt K_K05
- Potrafi funkcjonować w sposób przedsiębiorczy